Kolejny krok IBM w kierunku nanoelektroniki
Naukowcom z firmy IBM udało się, za pomocą techniki optycznej litografii umożliwiającej produkcję mikroprocesorów komputerowych, wygrawerować równoległe i powtarzalne ścieżki przewodzące oddalone od siebie o 29,9 nanometrów.
Daje to szansę na dalszą miniaturyzację mikroprocesorów w kierunku urządzeń nanoelektronicznych, bez konieczności radykalnej zmiany metody ich wytwarzania - donosi Opto&Laser Europe.
Badania prowadzone w IBM Almaden Research Center były szczególnie
pozytywnie przyjęte przez producentów mikrochipów, dla których
oznacza to, iż przez najbliższe kilka lat produkcja procesorów
komputerowych oparta będzie nadal na tej samej, dziś stosowanej
powszechnie technologii.
Dotąd 32 nanometry (nanometr to miliardowa część metra) były
najmniejszą odległością oddzielającą dwie równolegle przebiegając
ścieżki przewodzące, którymi przesyłane są sygnały elektryczne
wewnątrz procesora. Odległość ta, stanowiąc limit możliwości
optycznej litografii, rzutuje na gęstość upakowania elementów
składowych (np. tranzystorów), a co za tym idzie - wyznacza limit
miniaturyzacji produkowanych w ten sposób mikrochipów.
Optyczna litografia jest metodą wykorzystującą światło lasera do
grawerowania układów scalonych na wrażliwym optycznie materiale.
By zbliżyć do siebie optycznie grawerowane ścieżki o 2,1
nanometra, naukowcy z laboratoriów IBM musieli skonstruować
zupełnie nowe urządzenie litograficzne (nazwane NEMO) oraz
zastosowali nowy materiał immersyjny, ułatwiający kontakt optyczny.
Materiał ten, podobnie jak materiał z którego zbudowane są
soczewki, winien mieć wysoki współczynnik załamania światła
(optymalnie 1,9), co ma decydujące znaczenie dla dokładności
optycznej litografii.
Prototypowy NEMO wyposażony jest w soczewki optyczne (o wyjątkowo
wysokim współczynniku załamania światła) skupiające promień dwóch
laserów, których prążki interferencyjne odpowiedzialne są za
fotograwerowanie.
Aby przemysł komputerowy dalej mógł stosować obecną technologię
produkcji chipów, muszą zostać opracowane nowe materiały, z
których powstaną soczewki o jeszcze większym współczynniku
załamania światła - uważają naukowcy.
"Nasze wyniki oddalają widmo radykalnych zmian w technologii
wytwarzania mikrochipów na nie mniej niż siedem lat" - mówi dr
Rober Allen z IBM Almaden Research Center.
"Celem trwających w laboratoriach IBM badań jest opracowanie
technologii, która da szansę na maksymalne wykorzystanie optycznej
litografii jako przemysłowej metody wytwarzania mikrochipów" -
konkluduje Allen.(PAP)
poleca:
