Procesory mogą być jeszcze mniejsze
Procesory mogą być jeszcze mniejsze. Pozwalać ma na to udoskonalona "nanolitografia", opracowana przez naukowców z Massachusetts Institute of Technology (MIT). Produkowane w ten sposób czipy będą bardziej wydajne bez zwiększania ich rozmiarów - informuje MIT na swojej stronie internetowej.
Technologia pozawala na odwzorowanie na płytce krzemowej
drobniejszych wzorów obwodów scalonych niż to się dzieje obecnie.
Litografia optyczna wykorzystuje światło lasera do przeniesienia
wzoru na układ. Aby uzyskać drobniejsze wzory, używano laserów o
mniejszej długości fali.
Według Ralfa Heilmanna z MIT, członka
zespołu badawczego, technologia ta ma jednak swoje ograniczenia.
Dlatego zespół z MIT stworzył inną metodę. Do przygotowania wzoru
użyto technologii litografii holograficznej. Posłużono się w tym
celu specjalnym narzędziem - laserową "nanolinijką", zbudowaną
przez absolwentów MIT. Służy ona do wykonywania niezmiernie
precyzyjnych operacji, nazywanych litografią holograficznej wiązki
skanującej (scanning-beam interference lithography, SBIL).
Wiązka
wykorzystuje fale dźwiękowe o częstotliwości 100 MHz do
rozszczepienia i modulacji częstotliwości światła lasera. W ten
sposób można zwiększyć gęstość wzoru. Według twórców nowej
litografii, zarówno same linie układu, jak i odstępy między nimi
mogą wynosić 25 nm.
W najnowocześniejszych obecnie procesorach komputerowych linie i
odstępu między nimi wynoszą 45 nm. Intel w 2009 r. zamierza
produkować takie procesory, w których linie i odstępy będą miały
32 nm. Według przewidywań producentów, osiągnięcie 25 nm będzie
możliwe w latach 2013 - 2015 r. Technologia SBIL może przyspieszyć
ten proces. (PAP)
ostatnia zmiana: 2008-07-15
poleca:
